辉光放电光谱(Glow Discharge Optical Emis-sion Spectrometer,GD-OES)是一种基于惰性气体在低气压下的放电原理而发展起来的分析技术。早在1852年,Gmve报道了辉光放电管中的阴极溅射现象,其后的研究主要集中于空心阴极灯和原子吸收。自1978年出现了第 一台商品化仪器以来,在德国、法国和日本的金属生产和研究中心中迅速普及开来。如今，辉光放电技术已能够很好地用于表征描述材料的特性，同时行业也建立了相应的ISO标准。
辉光放电光谱仪的用途：
脉冲射频辉光放电光谱仪能够在短短几分钟内帮助您获得如下信息：样品中含有什么元素？
属于哪个浓度水平？样品在深度上是否分布均匀？样品是否有镀层或应用了表面处理？镀层的厚度是多少？界面是否有污染？样品是否被氧化？不同层之间是否存在散射？
辉光放电光谱仪应用领域：
脉冲射频辉光放电光谱仪—可超快速进行薄/厚膜的深度剖析
脉冲射频辉光放电光谱仪可以用于薄/厚膜中的深度剖析：元素的浓度、变化趋势以及镀层厚度，它的测量深度可以从表面几纳米达到150微米以上。同时，脉冲射频辉光放电光谱仪还具备很好的深度分辨率，可达1nm以下。这使得大家在进行薄膜分析时，可以很清晰地看到每一层元素的变化及界面的信息。这将有助于我们获取更多样品信息，从而改进生产工艺、提高产品质量等。

如今，脉冲射频辉光放电光谱仪已被广泛应用于各个研发、分析及生产领域，如纳米尺度及纳米尺度以上镀层的新材料发展、涂漆车体上腐蚀的起源研究、稀有金属的成分评估、工业上监控光伏器件的生产、硬盘或LED的生产控制以及锂电池改进等。作为新兴的表面分析技术，辉光放电光谱仪凭借其独特的功能和特点，可以与XPS和SEM有很好的互补。

射频辉光放电光谱仪GD-Profiler 2™概述：

GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素，包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。

配有RF光源，可以在脉冲模式下检测易碎的样品，GD-Profiler 2™的应用范围从对腐蚀的研究到PVD涂层的工艺控制，在大学被广泛用于常规的金属和合金产品的研究。

GD-Profiler 2™射频辉光放电光谱仪特征：

RF射频发生器- 标准配置，符合E级标准，稳定性高，溅射束斑J为平坦，等离子体稳定时间极短，表面信息无失真。

脉冲工作模式既可分析常见的涂、镀层和薄膜，也可以很好的分析热传导性能差和热易碎的涂、镀层和薄膜。

多道(同时)型光学系统可全谱覆盖，光谱范围：110nm至800nm，包含远紫外，可分析C, H, O, N, Cl

HORIBA Jobin Yvon 的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器有大光通量，因而有高的光效率和灵敏度

HDD® 检测器可进行快速而高灵敏的检测，动态范围达到10个量级

宽大的样品室方便各类样品的加载

功能强大的QUANTUMT XP软件可以多种格式灵活方便的输出检测报告

激光指点器(CenterLite laser pointer)可用于精Q加载样品

HORIBA Jobin Yvon单色仪(选配件)可极大的提高仪器的灵活性，可同时测定N+1个元素

辉光放电光谱仪软件：

辉光放电光谱仪采用Quantum软件，该软件为浓度VS深度剖析提供了新的算法，在线SPC设备用于生产跟踪，Time Plus功能需要时可在进行分析的同时候增加测试时间，并且被称赞的等离子体清洁功能可在测试前清洁样品表面。辉光放电光谱仪采用Quantum软件，该软件的功能强大，并且还有许多人性化的设计，如：

采用新算法对浓度vs深度进行分析

在线SPC设备可实现对生产过程的实时监控

Time Plus功能可直接在分析进行过程中增加测试时间，避免因时间预估不足而重新测试。

等离子体清洁方式可在装载样品后快速、柔和的清洁样品表面，这种方式特别适用于薄层样品，避免了传统清洁方式对样品的破坏。

辉光放电光谱仪附件：

多种附件用于处理各类样品以及相关可能的多种应用：

*“Li bell”附件：专门用于测试那些无法暴露在空气中的样品

*小样品夹：中心线用于精Q定位分析点

*通用的样品夹：适用于不平整样品、管状样品和棒状样品

*各种各样的阳极（材料和直径）：2mm、4mm、6、7 & 8mm铜阳极

*RF匹配盒：用于厚的非导体层

*用于分析粉末的成套压片工具

*制备设备

*表面轮廓仪：优的操作条件可获得平整的溅射坑，为选择条件提供了判定依据，还可用于测试溅射速率